Resumen
Se depositaron películas delgadas de PbTiO3 (PT) a temperatura de 400°C en un sustrato de Pt/Ti/SiO2/Si <100> por el método de depósito químico asistido por aerosol (CVD-AA) usando precursores organometálicos. Con el propósito de estabilizar la fase Perovskita, la película fue recocida a temperaturas de 550°C por 12 horas, en una atmósfera rica en Pb. Se realizaron análisis termogravimétricos de los precursores con la finalidad de conocer la temperatura teórica de depósito. La cristalinidad de la fase antes y después del recocido fue caracterizada por difracción de rayos-X a incidencia rasante. Por otro lado, también se realizó análisis microestructural por microscopias electrónicas de barrido (MEB) y de trasmisión (MET).
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